氧化铝 （Al2O3） 低电介损耗类型
降低氧化铝的介质损耗，增强稳定性的材料。
在使用等离子的装置（CVD、蚀刻机）中，解决下述各项问题。
- ・不加大输出功率，速率就上不去。
- ・每一个装置中，使用同样的输出功率但速率却不稳定。
- ・调谐上花费功夫。
- ・等离子出现不均匀。
特长、特性（特征值）
电气特性
标准氧化铝和A995LD的比较
用途
促使等离子出现不稳定的因素，我们认为是使用陶瓷的构件的高介质损耗和不稳定性。
在使用等离子的装置（CVD、蚀刻机）中，解决下述各项问题。
通过使用降低陶瓷的介质损耗使其稳定的A995LD，提高了装置的性能。
- 通过降低功率损耗节省电力
- 速率的稳定化
- 调谐的省力化
- 放置等离子的分散
系列表
| 类型 | 特征 | 型号 | 用途 |
|---|---|---|---|
| 标准品 | 可加工大型形状 价格比较便宜 |
A995 | ・各种半导体制造装置用构件 ・各种液晶装置用大型零部件 ・粉末设备用大型耐磨耗零部件 |
| 低电介损耗类型 | 低电介损耗 | A995LD | ・半导体制造用等离子装置 |
| 耐热冲击类型 | 耐热冲击性 高韧性 |
A995S | ・热处理过程的搬运零部件 ・加热器的周边构件 |
| 高纯度类型 | 高纯度 无气孔 |
AJPF | ・半导体制造用等离子装置 |
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