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セラミックス溶射

高出力の大気圧プラズマ溶射装置により、一般的には考えられない緻密性を有した低コスト・高付加価値のセラミックス溶射膜を提供します。
耐摩耗、耐腐食、耐プラズマ性など、目的に合わせた材質選択とセラミックス基材との一貫製造が可能です。

特長・用途

特長

  • 緻密膜
  • 高密着力
膜種:
(1)Al2O3(アルミナ)
(2)Y2O3(イットリア)

用途

  • 半導体チャンバー内部材
    (エッチャー、CVD装置用部材に最適)
  • 各種耐磨耗関連部材
  • 静電チャック

技術紹介

◆高出力プラズマガン

高出力ツインアノードガンが緻密且つ高密着のセラミックス膜を
形成します。

◆高品質膜

クラス10,000のクリーンルーム内で厳格な検査を行い、溶射膜をクリーンで高品質に保ちます。

◆溶射皮膜の表面研磨技術 (Ultra Smooth Polish )

従来培ってきたセラミックス加工技術により、溶射膜への鏡面加工も可能です。

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